Sistema penitenziario e detenuti stranieri: esperti internazionali all’Università per stranieri di Siena

Domani e sabato, all’Università per Stranieri, si parlerà dei problemi del sistema penitenziario verso nuove risorse e prospettive. Alle 10 in Aula Magna, infatti, avrà inizio il Convegno Internazionale dedicato proprio alle tematiche del carcere, dal nome “Sistema penitenziario e detenuti stranieri: problematiche, risorse e prospettive”.
Si tratta di due giornate di lavoro, dove saranno presentati i principali risultati del progetto RiUscire, coordinato dalla professoressa Antonella Benucci e finanziato all’interno del programma Erasmus, vincitore del Label Europeo 2016. All’interno della due giorni, si darà spazio al confronto di esperti internazionali su come è possibile trasformare il contesto penitenziario europeo da luogo di esclusione e privazione a luogo di acquisizione di competenze e di preparazione al reinserimento sociale.
Secondo i dati raccolti dall’ateneo, la presenza di detenuti stranieri nelle strutture penitenziarie è in crescita nella maggior parte dei Paesi europei: attualmente oscilla tra il 30 e 40% del totale della popolazione reclusa. È proprio questa fascia di detenuti a correre più frequentemente i rischi della radicalizzazione e della marginalizzazione, come testimonieranno i direttori di carceri presenti, gli esperti europei e i ricercatori. E’ opinione, ormai diffusa, che il detenuto straniero non possa raggiungere l’obiettivo del reinserimento nella società soprattutto a causa dello svantaggio linguistico che impedirebbe un reale immissione in ambiente lavorativo, interno o esterno al carcere. L’esperienza di ricerca dimostra invece che è possibile sfruttare e valorizzare la dimensione interlinguistica e interculturale del contesto penitenziario, trasformandolo in un luogo ricco di risorse. Una tematica ancora difficile da affrontare e tante barriere ancora da superare. Su questo tema saranno portate esperienze e buone pratiche svolte in Spagna, Francia, Germania, Portogallo, Italia.